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异质接面双极性电晶体
稳懋提供使用磷化铟镓(InGaP)为射极材料的异质接面双极性电晶体(HBT)晶圆代工服务。磷化铟镓HBT具有极佳的功率特性、线性度、温度稳定性与可靠度。稳懋目前可以提供多种制程技术的量产服务。

WIN's InGaP HBT Process Technologies

  1μm HBT)
(H01U-00)
2μm HBT
(15V)
(H02U-00)
1μm HBT
(H02U-01)
2μm HBT
(High Linearity)
(H02U-32)
2μm HBT
(High Ruggedness)
(H02U-43)
Targeted
Applications
OC192 PMD and
PHY Layer circuits
Cellular,PCS,
802.11xPA
802.11xPA CDMA PA with
higher Linearity
GSM PA With
stringent ruggedness
Requirement
fT (GHz) 65 35 35 31 31
fmax(GHz) 80 100 120 110 110
IDC current gain 140 75 75 70 75
BVCEO (V) 9 15 14.5 16.5 17
BVEBO (V) 9 9 10 9.5 7
BVCBO (V) 18 22 23 27 30
TFR(ohm/sq) 50 50 50 50 50
Capacitor(pf/mm2) 600(MIM) 300(MIM)
450(Stack Cap)
600(MIM)
900(Stack Cap)
600(MIM)
900(Stack Cap)
600(MIM)
900(Stack Cap)
Interconnect Crossover Polyimide SiN Polyimide Polyimide Polyimide


1 微米HBT (H01U-00)

稳懋的1 微米HBT是以1 μm 射极为单位元件,可适用於宽频光学通讯系统(SONET/SDH)。此技术的重点有:
  • 65 GHz ft (截止频率) 制程
  • 高度整合电路
  • 针对功率放大器, 10 Gb/s 光学通讯
    -- 高频功率放大器
    -- TIA, LA/AGC
  • 可量产


F v.s J Characteristics  
2 微米HBT (H02U-00, -10, -20)

稳懋现阶段已经发展出3种2 微米HBT量产制程。这些技术适用於行动通讯的手机与无线区域网路WLAN的应用。

HBT X' sectional View DC Life test (H02U-00)


GSM1900 Loadpull (H02U-00)  


GSM1900 Loadpull (H02U-20) GSM1900 Ruggedness (H02U-20)
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